新聞
高性能特種光學(xué)薄膜技術(shù)及應(yīng)用研討會
http://www.csoe.org.cn/2015BM/
2015年10月18-20日 成都
現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域中,光學(xué)薄膜技術(shù)在需求的牽引下已經(jīng)成為產(chǎn)業(yè)化技術(shù), 它已涉及物理、化學(xué)、電子學(xué)、冶金學(xué)等學(xué)科,有著十分廣泛的應(yīng)用,尤其是在國防、通訊、航空、航天、電子工業(yè)、光學(xué)工業(yè)等方面有著特殊的應(yīng)用。為了推動我國高性能特種光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展,中國光學(xué)工程學(xué)會聯(lián)合多家單位舉辦光學(xué)薄膜技術(shù)及應(yīng)用研討會,將邀請該領(lǐng)域的知名專家和學(xué)者到會,并做專題講座;向從事高端光學(xué)薄膜制造和特性測試技術(shù)等科技人員介紹最新的光學(xué)薄膜技術(shù)進(jìn)展,并進(jìn)一步深入交流和探討光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域所取得的最新研究成果。機會難得,誠摯邀請光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域的專家學(xué)者及企業(yè)界人士一同聆聽大家報告、探討最新研究成果。
歡迎相關(guān)領(lǐng)域的科研人員踴躍投稿。會議組委會屆時將推薦會議論文至國家公開出版的優(yōu)秀期刊(EI收錄)發(fā)表。
投稿須知:
會議邀請作者將原創(chuàng)的論文投往本會議,中英文稿兼收,全文投稿請于2015年10月10日之前登錄投稿網(wǎng)址:http://events.kjtxw.com/tougao/1426492990.html,注明2015薄膜會議。
論文發(fā)表:
· 英文稿件將被SPIE會議論文集收錄,會后兩個月出版,5個月EI檢索。
· 中文稿件推薦至《紅外與激光工程》(EI)、《光學(xué)精密工程》(EI)、《強激光與粒子束》(EI)、《太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報》(科技核心期刊)、《中國光學(xué)》(科技核心期刊)正刊出版。
投稿截止時間:2015年10月10日(第一輪)
(無論有無投稿,均歡迎參會?。?/span>
主辦單位:
中國工程院電子信息學(xué)部
國家自然基金委員會
中國光學(xué)工程學(xué)會
承辦單位:
中國光學(xué)工程學(xué)會
中國宇航學(xué)會光電技術(shù)專業(yè)委員會
大會主席:
莊松林 院士(上海理工大學(xué))
特邀專家報告:
程勇(解放軍武漢軍械士官學(xué)校),光學(xué)薄膜激光損傷研究
楊李銘(成都精密光學(xué)工程研究中心),
季一勤(航天三院8358所),
劉定權(quán)(上海技術(shù)物理研究所),空間應(yīng)用中的紅外光學(xué)薄膜,
王多書(中國航天科技集團(tuán)公司510所),空間集成光學(xué)薄膜,
李剛(中科院大連化物所),
易葵(中科院上海光機所),
程鑫彬(同濟大學(xué)),高損傷閾值激光薄膜
羅暉(國防科技大學(xué)),
李斌成(電子科技大學(xué)),光腔衰蕩技術(shù)在高性能光學(xué)薄膜檢測中的應(yīng)用
張大偉(上海理工大學(xué)),
劉衛(wèi)國(西安工業(yè)大學(xué)),薄膜微光學(xué)元件的制備與應(yīng)用鄭玉祥(復(fù)旦大學(xué)),
李紅東(吉林大學(xué)),
吳周令(合肥知常光電技術(shù)),
王京獻(xiàn)(西安北方杰瑞光電)
(好展會網(wǎng) 光電專題 )
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